Electronic Chemicals G4 Hidrofluoric Acid (félvezető nedves vegyszer)

Electronic Chemicals G4 Hidrofluoric Acid (félvezető nedves vegyszer)

A dokumentum átdolgozása: 01
Kiadás dátuma: 2026-09-02
Alkalmazandó szabvány: SEMI G4 fokozat (Semiconductor Ultra-High Purity Wet Chemical)

Termék azonosítás

 

Tétel

Specifikáció

Termék neve

G4 Hidrofluorsav (HF)

Termékkategória

Félvezető elektronikus nedves vegyszer

Kémiai név

Hidrofluorsav

Kémiai képlet

HF

CAS-szám

7664-39-3

Molekulatömeg

20.01

ENSZ-szám

1790

Fokozat

SEMI G4 Ultra-Nagy tisztaságú elektronikus minőségű

 

Termék áttekintése

 

A G4 Hydrofluoric Acid egy nagy-tisztaságú fluor-alapú szervetlen sav, amelyet kizárólag fejlett félvezető lapkák gyártására és mikroelektronikai gyártásra fejlesztettek ki. A több-fokozatú ultra-tisztítást, a korróziómentes-szűrést és az 1000-es osztályú tiszta-térkitöltési technológiát alkalmazó termék ultra-alacsony fémnyomokban, anionos szennyeződésekben és mikro-részecske-tartalomban teljes mértékben megfelel a szigorú SEMI G4 nemzetközi szabványoknak.

 

Szelektív maratási és tisztító nedves vegyszerként a félvezető elülső{0}}folyamatokban, kiváló maratási szelektivitást mutat a szilícium-oxid rétegekre, miközben minimális kárt okoz a szilícium szubsztrátumokban és a nitrid filmekben. A szigorú szennyeződés-ellenőrzés hatékonyan elkerüli a mikro-szennyeződést és az ostyahibákat, magas hozamot és hosszú távú stabilitást- biztosítva a fejlett chipgyártási folyamatokhoz.

 

Megjelenés:Színtelen, tiszta és átlátszó illékony folyadék

 

Műszaki adatok (SEMI G4 szabvány)

 

Tesztelem

Specifikáció

HF Assay

48,5-49,5 tömeg%

Megjelenés

Színtelen és átlátszó, átlátszó folyadék

Szín (APHA)

5-nél kisebb vagy egyenlő

Sűrűség @ 20 fok

1,15 ~ 1,18 g/cm³

Párolgási maradék

30 ppb vagy kisebb

Egyes fémnyomok (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr)

Egyenként legfeljebb 10 ppb

Fluosilsav (H₂SiF₆)

10 ppm vagy annál kisebb

Szulfát (SO₄²⁻)

30 ppb vagy kisebb

Nitrát (NO3⁻)

30 ppb vagy kisebb

Klorid (Cl⁻)

30 ppb vagy kisebb

Részecskék Nagyobb vagy egyenlő, mint 0,2 μm

100 db/ml vagy annál kisebb

 

Jegyzet:Minden tesztadat köteg{0}}specifikus COA-n (elemzési tanúsítvány) alapul.

 

Alkalmazások (félvezető nedves eljárás)

 

Ostya natív oxid eltávolítása:Szelektíven távolítsa el a natív szilícium-oxid és a visszamaradt oxid szennyeződéseket a szilícium lapka felületeiről a szilíciumhordozó károsodása nélkül, optimalizálva a felület állapotát a lerakódási, litográfiai és maratási folyamatokhoz.

Precíziós szelektív rézkarc:SiO₂ dielektromos rétegek, gate oxid rétegek és vékony filmrétegek finom maratására használják az IC gyártásban, magas maratási egyenletességgel és kiváló folyamatszabályozással a precíz mintaátvitel érdekében.

RCA nedves tisztítási folyamat:A módosított RCA tisztító oldatok kulcsfontosságú összetevőjeként szolgál, hogy eltávolítsa a mikro-részecskéket, ionos szennyeződéseket és szerves maradványokat az ostya felületéről, javítva az ostya általános tisztaságát.

Speciális csomagolás és MEMS folyamat:Alkalmazható MEMS-eszközök, félvezető-érzékelők és fejlett chipcsomagoló alkatrészek felületkezelésére, mikro-maratására és szennyeződések eltávolítására, alkalmazkodva a nagy-precíziós mikroelektronikai gyártási követelményekhez.

 

Csomagolás és töltés szabvány

 

Csomagolás típusa:Korrózióálló-PTFE-bélelt / tiszta-minőségű HDPE zárt dob, dedikált HF vegyszercsomagolás

Közös specifikáció:25 kg / 30 kg kisdob, 1000 kg korrózióálló -IBC hordó

Kitöltési környezet:1000-es osztályú tisztatér, teljesen korróziómentes-gyártási és töltőrendszer, nulla másodlagos szennyeződés

Tömítési szabvány:Speciális anti-illékony és szivárgásgátló tömített szerkezet, szigorúan megakadályozza az illékony veszteséget és a külső szennyeződést

 

Tárolás és eltarthatóság

 

● Tárolja hűvös, száraz, szellőztetett fluor vegyszeres raktárban, szorosan lezárva, távol a közvetlen napfénytől, magas hőmérséklettől és hőforrásoktól.

● Szigorúan izolálja az üvegtermékektől, lúgos anyagoktól, oxidálószerektől és fémanyagoktól, hogy elkerülje a kémiai korróziót és az érvénytelen reakciókat.

● Tiltsa meg a hosszú{0}}nyitott tárolást az illékony károsodás és a nedvességfelvétel miatti szennyeződés elkerülése érdekében.

● Eltarthatóság:12 hónapig normál zárt tárolási körülmények között

 

Kezelés és biztonsági óvintézkedések

 

● A hidrogén-fluorid erősen korrozív és illékony. A kezelőknek professzionális védőeszközt kell viselniük: fluorid{1}}álló kesztyűt, teljesen zárt vegyszeres védőszemüveget, korrózióálló-kötényt és védőruházatot.

● Minden műveletet professzionális füstelszívókban kell elvégezni; kerülje az illékony gázok belélegzését és a bőrrel, szemmel és nyálkahártyával való közvetlen érintkezést.

● Hígítás és adagolás közben lassan adjon savat ionmentesített vízhez; soha ne adjon vizet a tömény hidrogén-fluoridhoz, hogy elkerülje a fröccsenést és a biztonsági baleseteket.

● Véletlen érintkezés vagy szivárgás esetén haladéktalanul különleges elsősegély-nyújtási intézkedéseket kell tenni, és szigorúan be kell tartani az SDS sürgősségi ártalmatlanítási irányelveit.

● A teljes veszélyességi besorolást, a szállítási előírásokat és az elsősegélynyújtási{0}}eljárásokat a hivatalos SDS-dokumentumban találja.

 

Minőségbiztosítás

 

A G4 fluorsav minden egyes tételét a SEMI G4 nemzetközi félvezető szabványoknak megfelelően állítják elő, tisztítják és ellenőrzik. Minden szállítmányhoz köteg-specifikus hivatalos COA tartozik. A teljes gyártási és töltési folyamat szigorú tiszta-térszennyeződés-ellenőrzést és korrózióálló-folyamatkezelést alkalmaz, amely ultra-nagy tisztaságot és stabil minőséget biztosít, hogy megfeleljen a fejlett félvezető nedves gyártási folyamatok szigorú követelményeinek.

 

Népszerű tags: elektronikai vegyszerek g4 hidrogén-fluorid (félvezető nedves vegyi anyag), Kína elektronikai vegyszerek g4 hidrogén-fluorid (félvezető nedves vegyszer) gyártók, beszállítók, gyár

A szálláslekérdezés elküldése